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PROCESSO DE FABRICAÇÃO DE FILMES FINOS COM PROPRIEDADES ELÉTRICAS E ÓPTICAS E PRODUTO OBTIDO

28.09.15

Descrição

É descrita a invenção de um processo de fabricação de filmes finos com propriedades elétricas e ópticas que compreende uma matriz produzida a partir dos alcóxidos de silício 3-glicidoxipropiltrimetoxisilano (GPTS) e tetraetilortosilicato (TEOS), com acréscimo do polímero condutor poli(3,4-etileno dioxitiofeno):poliestireno sulfonado (PEDOT:PSS), sendo obtido um eletrodo com espessura entre 0,5 – 1,0 μm e concentração de PEDOT:PSS entre 50,0% e 60,0%, apresentando resistência de folha de 100 Ω/sq e transmitância de 84,0% em 550 nm, sendo estas propriedades comparáveis aos eletrodos de óxido de índio-estanho do estado da técnica.

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