23.12.14
Descrição
Refere-se a um reator a plasma, um processo de revestimento de filme de carbono referido aparato e correspondente filme aparato para deposição de pelo uso do obtido a partir do referido processo. O referido aparato para reator de plasma que viabiliza que o processo de deposição de revestimento de filmes de carbono a plasma ocorra apresentando distribuição ordenada e sobreposição regular, compreendendo o uso de nanopartículas ou com a ausência de nanopartículas e com carreamento de vapor de líquido por meio de diferença de pressão. O referido carreamento implica na dispensa do uso de gás de arraste e do uso de aquecimento externo para evaporação. A presente invenção pertence ao campo da química.
Diferencial Tecnológico
Até o presente não é comercializado um aparato que pode ser acoplado externamente ao reator de plasma, que propicie a deposição de filmes contendo nanoparticulas em toda sua estrutura. O aparato é utilizado conjuntamente com um sistema de ultrassom que permite a desaglutinação de nanoparticulas propiciando o arraste destas para o interior do reator por diferença de pressão entre o interior do aparato (pressão positiva) e o interior do reator (pressão negativa) sem uso de gás de arraste . O aparato pode ser acoplado a qualquer marca de reator desde que possa ser acoplado em uma conexão. Os alvos em geral são caros e necessitam de acoplamento de imãs para erosão do alvo por meio de gás nobre como por exemplo, o gás argônio, que é utilizado para remover partículas do alvo por um processo colisional produz as nanoparticulas. O presente invento avança no estado da técnica por utilizar um sistema que carreia as nanoparticulas dispersa em um liquido precursor de carbono, como por exemplo o hexano.
Objetivos da Universidade
Transferência de Tecnologia
