24.04.17
TRL5
Descrição
A presente invenção descreve o desenvolvimento de um novo processo para deposição de filmes finos cerâmicos sobre superfícies cerâmicas ou metálicas com controle de porosidade e tamanho de grão, visando a obtenção de nanoestruturas. No método proposto utilizam-se como matérias-primas sais metálicos e compostos orgânicos oxidantes que são dissolvidos em água, formando uma solução precursora. Especificamente, o invento possibilita a obtenção de filmes finos de materiais cerâmicos avançados com microestrutura fina e porosa, utilizando um equipamento de baixo custo e temperaturas de processo relativamente baixas e com pouco desperdício de matéria-prima. O emprego da técnica de CSA tem potencial para reduzir os custos finais de diversos artefatos, tornando produtos de alta tecnologia mais acessíveis à população. A presente invenção se situa no campo da Química e Engenharia.
Diferencial Tecnológico
A presente invenção descreve o desenvolvimento de um novo processo para deposição de filmes finos cerâmicos sobre superfícies cerâmicas ou metálicas com controle de porosidade e tamanho de grão, visando a obtenção de nanoestruturas. No método proposto utilizam-se como matérias-primas sais metálicos e compostos orgânicos oxidantes que são dissolvidos em água, formando uma solução precursora. Especificamente, o invento possibilita a obtenção de filmes finos de materiais cerâmicos avançados com microestrutura fina e porosa, utilizando um equipamento de baixo custo e temperaturas de processo relativamente baixas e com pouco desperdício de matéria-prima. O emprego da técnica de CSA tem potencial para reduzir os custos finais de diversos artefatos, tornando produtos de alta tecnologia mais acessíveis à população. A presente invenção se situa no campo da Química e Engenharia.
Objetivos da Universidade
Transferência de Tecnologia
