01.08.14
Descrição
A presente patente de Invenção trata de equipamento de óptica (E2) para medidas fotométricas em filmes ultrafinos e finos e método de análise de amostras (A) de filmes ultrafinos e finos, mais precisamente de um equipamento e método pertencentes ao campo dos aparelhos ópticos que permitem realizar análise preliminar das amostras de grafeno, quantizando, de forma rápida, o número de monocamadas nas regiões de interesse e fazendo um mapeamento geral da amostra. O presente invento ainda faz um mapeamento das amostras de filmes finos, ultrafinos e amostras biológicas quanto à sua densidade, espessura, etc., variando os fatores da lei de Lambert-Beer, dando uma noção de um mapeamento fotométrico em bandas predefinidas de amostras
Diferencial Tecnológico
Com o mapeamento fotométrico é possível determinar a densidade de uma substância (caso seja conhecido e constante o caminho óptico) ou da espessura de um filme (caso seja conhecida e constante a concentração dos componentes do filme, como é o caso do grafeno).
Objetivos da Universidade
Licenciar a tecnologia ou realizar sua cessão em definitivo. A universidade está disponível para transferir essa tecnologia de imediato caso haja instituição interessada. Devido ao nível de maturidade, é desejável que o licenciante tenha capacidade para realizar as etapas necessárias para tornar a tecnologia pronta para uso
